湿电子化学品（又称电子级试剂、超净高纯化学试剂、工艺化学品、湿化学品等）一般主体成分纯度大于99.99%，是电子职业湿法制程的要害资料，常用于湿法刻蚀、清洗等微电子、光电子湿法工艺制程，约占集成电路制作本钱的5%。

　　通用湿电子化学品一般为单组份、单功用、被很多运用的液体化学品，包含酸、碱、有机溶剂等，常用于集成电路、液晶显现器、太阳能电池、LED制作工艺等；

　　功用湿电子化学品指通过复配手法到达特别功用、满意制作中特别工艺需求的复配类化学品，包含蚀刻液、清洗液、光刻配套试剂等，常用于半导体刻蚀、清洗等工艺中。

　　世界半导体设备和资料协会(SEMI)依据金属杂质、操控粒径、颗粒个数和使用场景规模等拟定了湿电子化学品世界等级分类规范。

　　湿电子化学品常用于平板显现、LED、分立器材等范畴；Grade3等级湿电子化学品常用于平板显现、LED、集成电路等；Grade4等级湿电子化学品常用于集成电路等范畴。

　　欧美传统老牌企业的湿电子化学品产品市场份额（以销售额计）约为34%,首要企业有德国巴斯夫公司、美国亚什兰集团、亚什兰化学公司、美国Arch 化学品公司、美国霍尼韦尔公司、AIR PRODUCTS、德国E.Merck 公司、美国Avantor Performance Materials 公司、ATMI 公司等。

　　日本企业约占30%的市场占有率，首要企业关东化学公司、三菱化学、京都化工、日本合成橡胶、住友化学、和光纯药工业（Wako）、stella-chemifa 公司等。

　　1980年北京化学试剂研究所在国内首先研制成功合适5µm技能用的MOS级试剂开端，通过数十年堆集，国内湿电子化学品企业连续获得了G1、G2等级的化学试剂出产技能，少量部分技能抢先企业现已具有G2等级化学试剂规模化出产的才能，部分产品的要害技能指标已到达了世界G3规范的水平。2010年之后，技能抢先企业的部分产品具有了G3等级的出产技能，职业进入加快速度进行发展阶段。

　　的湿电子化学品现在首要出产G2、G3等级，仅部分到达G4等级，产品首要进口自欧美、日本、韩国、中国台湾的企业。

　　湿电子化学品的纯度和洁净度关于电子元器材产品的成品率、功能和可靠性有重要影响。仪器信息将湿电子化学品纯度及杂质剖析和颗粒检测常用的仪器进行收拾。

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